据小米电视总经理潘俊（微博ID：英雄英烈MiTV潘俊同学）透露，小米电视SPro或将搭载小米最新操作系统——小米澎湃OS。

三、致敬【核心创新点】 1、通过超灵敏二次离子质谱(SIMS)证实无限层镍酸盐中存在大量的H，形成Nd8Sr0.2NiO2Hx(x≅0.2-0.5)。(c) 不同入射角θ下的掺杂有关的RIXS光谱(d – f)Nd0.8Sr0.2NiO2Hx 的RIXS强度图，未忘在T  =20K时测量，未忘 x  =0.19( d )、0.26( e )和0.33( f ) ©2023SpringerNatureLimited图4Nd0.8Sr0.2NiO2Hx的电子结构（a–c）Nd0.8Sr0.2NiO2Hx ( x  =0( a ),0.25( b )和0.5( c ))的带结构和DOS轨道投影。

英雄英烈（e）3dx2−y2-3dz2轨道极化作为H浓度的函数。(a)原始Nd0.8Sr0.2NiO3和Nd0.8Sr0.2NiO2薄膜在不同还原时间下的SIMS深度剖面，致敬以及使用优化的拓扑还原条件300°C和120分钟下参考还原SrTiO3单晶（红色实线）。其中一个最关键的挑战在于材料的合成，未忘其实，未忘稍微了解材料化学的人都可以发现，RNiO2材料中的Ni元素的化合价为不寻常的+1价，其合成路径很可能需要化学还原法，没错，早在1983年，就有学者采用这一思路实现了该体系的合成（J.Chem.Soc.FaradayTrans.II 79,1181–1194(1983)，这一合成思路也被2019年的突破性成果所采用，不过，这一合成路径通常通过金属氢化物的拓扑还原反应实现，那么，问题来了，这一化学过程极有可能引入氢元素。

(d) T =300，英雄英烈15K条件下，英雄英烈随氢浓度改变的RH ©2023SpringerNatureLimited图3XAS和RIXS表征(a)Nd0.8Sr0.2NiO2Hx x =0.19、0.26和0.33以及参比NdNiO3薄膜的O K-edge附近的表面敏感总电子产率XAS光谱。致敬（b）对应于a的Ni L3-edge附近的体积敏感荧光产率XAS光谱。

四、未忘【数据概览】图1 生长和无限层镍酸盐的氢检测。

(b)在120分钟还原的超导样品中H、英雄英烈Nd、Sr、Ni、O和Ti元素的三维映射。这些研究结果展示了分子石墨烯如何直接从溶液中产生异常干净的电子器件，致敬并且电子特征的尖锐性为在原子精确的石墨烯纳米结构中利用自旋和振动性质提供了新的道路。

b、未忘Franck-Condon障碍在纳米器件的传输特性中的示意图。值得一提的是，英雄英烈由于无需悬浮纳米带，因此可以清晰地观察到振动态物理。

此外，致敬MGNRs的溶解度较差，也是制备可控器件的主要障碍之一。从化学的角度来看，未忘这为探索新型的合成设计领域打开了大门，其目的在于在石墨烯纳米带的边缘上放置不同的溶解基团以提高效率。